Materiaal 99,5%, 99,9%, 99,95% van de chromiumverdamping
De verdampingsdeklaag moet het verdampte materiaal met evaporator of atmosfeer vacu5um verwarmen om het te maken verdampen. De verdampte deeltjes stromen rechtstreeks aan het substraat en de storting op het substraat om stevige film te vormen.
De vacuümverdampingsdeklaag is een vroegere technologie en wijd gebruikt. Van de voorwaarde van met een laag bedekte deeltjes, is de verdampingsdeklaag niet zo goed zoals het sputteren en ionenplateren, maar de vacuümverdampingstechnologie heeft nog vele voordelen, zoals vrij eenvoudig materiaal en proces, deposito van zeer zuivere film, voorbereiding van film met specifieke structuur en eigenschappen, enz. Het is nog vandaag een zeer belangrijke deklaagtechnologie. In feite, heeft de technologie van het verdampingsplateren de uitbreidende industrie gevormd, die wijd in diverse industrieën wordt gebruikt en een belangrijke positie bezet.
Er zijn vele soorten de materialen van de verdampingsdeklaag. Momenteel, zijn er honderden hen hoofdzakelijk wordt gebruikt in de markt. Het productieproces omvat hoofdzakelijk: Kristal verpletteren, het smelten verpletteren, draadtrekken, draadknipsel, korreling, verpulveren, tablet die, enz. gieten vormen drukken. De productvorm omvat hoofdzakelijk: walsdraad, poeder, onregelmatig deeltje, kleine cilinder, kleine bal, kegel
Het materiaal van de chromiumverdamping, het materiaal van de Chromiumdeklaag is beschikbaar in variërende grootte
Over het algemeen, verwarmt het verdampingsmateriaal het doel om de oppervlaktecomponenten in de vorm van atoomgroepen of ionen te verdampen, en regelt op de substraatoppervlakte, die de film vormen door de film vormt proces (de verspreide groei van de de structuurlaag van de eilandstructuur verdwaalde).
| Rangen: |
Chrome die doel sputteren |
| |
Zuiverheid: 99.5%, 99.9%, 99.95% |
| Grootte |
3x3mm, 6x6mm |
| Dichtheid: |
7.19g/cm3 |
| Vorm: |
korrelige bladen, |
De belangrijkste producten zijn:
als volgt: (de deeltjes, de blokken en het poeder kunnen worden aangepast) aluminiumdeeltjes 99,99% 3 * 3mm; 99.999% 3 * 3mm koperdeeltjes 99,99% 3 * 3mm; 99.999% 3 * 3mm ijzerdeeltjes 99,9% 2 * 3mm titaniumdeeltjes 99,999% 6 * 6mm vanadiumdeeltjes 99,9% 3 * 3mm nikkeldeeltjes 99,999% 6 * 6mm chromiumdeeltjes 99,95% 35mm kobaltdeeltjes 99,95% 28mm mangaandeeltjes 99,8% 1-10 mm-bariumdeeltjes 99,6% 26cm (als deoxidizer) Calciumdeeltjes 99,5% 13mm (gebruikt als deoxidizer) wolframdeeltjes 99,95% 6 * 6mm niobium deeltjes 99,95% 6 * 6mm molybdeendeeltjes 99,95% 6 * 6mm tantaliumdeeltjes 99,95% 6 * 6mm zirconiumdeeltjes 99,5% 1,6 * 5mm; 99.95% 2,4 * 5mm kristalhafnium staven 99,9% d21mm-hafnium deeltjes 99,9%.
Al van het hoge zuiverheidsaluminium, Cu van het hoge zuiverheidskoper, Ti van het hoge zuiverheidstitanium, Si van het hoge zuiverheidssilicium, hoge zuiverheids gouden Au, hoge zuiverheids zilveren AG, hoge zuiverheidsindium binnen, hoge zuiverheidsmagnesium mg, Zn van het hoge zuiverheidszink, hoge zuiverheidsplatina PT, hoge zuiverheidsgermanium Duitsland, Ni van het hoge zuiverheidsnikkel, Hoge zuiverheidstantalium Ta, gouden germaniumlegering Auge, gouden auni van de nikkellegering, de legering NiCr van het nikkelchromium, de legering van het titaniumaluminium TiAl, cuinga van de het galliumlegering van het koperindium, van het het galliumselenium van het koperindium de legering CuInGaSe, de legering van het zinkaluminium ZnAl, de legering AlSi van het aluminiumsilicium en andere materialen van de metaaldeklaag.
| Type |
Toepassing |
Hoofdlegering |
Verzoek |
| Halfgeleider |
Voorbereiding van kernmaterialen voor geïntegreerde schakelingen |
W. wolframtitanium (WTI), Ti, Ta, Al legering, Cu, enz., met een zuiverheid van meer dan 4N of 5N |
Hoogste technische vereisten, ultrahoog zuiverheidsmetaal, hoge precisiegrootte, hoge integratie
|
| Het schermvertoning |
Het sputteren de technologie verzekert uniformiteit van filmproductie, verbetert productiviteit en drukt kosten |
Niobium doel, Siliciumdoel, Cr-doel, molybdeendoel, MoNb, Al doel, het doel van de Aluminiumlegering, Koperdoel, het doel van de Koperlegering |
Hoge technische vereisten, high-purity materialen, groot materieel gebied en hoge graad van uniformiteit
|
| Verfraai |
Het wordt gebruikt voor deklaag op de oppervlakte van producten om het effect van slijtageweerstand en corrosieweerstand te verfraaien |
Chromiumdoel, titaniumdoel, zirconium (Zr), nikkel, wolfram, titaniumaluminium, CRSI, CrTi, cralzr, roestvrij staaldoel
|
hoofdzakelijk gebruikt voor decoratie, energie - besparing, enz. |
| Het bewerken |
Versterk de oppervlakte van hulpmiddelen en de vormen, verbeteren de levensduur en de kwaliteit van vervaardigde delen
|
TiAldoel, Cr-Al doel, Cr-doel, Ti-doel, tin, tic, Al203, enz. |
Hoge prestatie-eisen en lange levensduur |
| Zonne photovoltaic |
Gesputterde dunne filmtechnologie voor de vervaardiging van de dunne filmzonnecellen van de vierde generatie |
Het oxydedoel van het zinkaluminium, zinkoxidedoel, het doel van het zinkaluminium, molybdeendoel, het doel van het cadmiumsulfide (CDS), het galliumselenium van het koperindium, enz. |
Brede Toepassing |
| Elektronische toebehoren |
Voor filmweerstand en filmcapacitieve weerstand
|
NiCrdoel, NiCr-doel, Cr-het doel van Si, Ta-doel, NiCr-Al doel, enz. |
De kleine grootte, de goede stabiliteit en de kleine coëfficiënt van de weerstandstemperatuur worden vereist voor elektronische apparaten |
| Informatieopslag |
Voor het maken van magnetisch geheugen
|
Gebaseerd Cr, gebaseerd Co, Co-gebaseerde Fe, Ni gebaseerde legeringen |
Hoge opslagdichtheid, hoge transmissiesnelheid |
Uw bericht moet tussen de 20-3.000 tekens bevatten!