De Legerings Sputterende Doelstellingen van het titaniumaluminium in het Galvaniseren, het Aluminium Sputterende Doelstellingen van het Hoge Zuiverheidstitanium aan Singapore

De Legerings Sputterende Doelstellingen van het titaniumaluminium in het Galvaniseren, het Aluminium Sputterende Doelstellingen van het Hoge Zuiverheidstitanium aan Singapore

Het sputterende die doel verwijst naar de grondstof in het het sputteren depositoproces wordt gebruikt, en zijn hoofdfunctie is een dunne film op het voorwerp te deponeren om de slijtageweerstand en de levensduur van het werkstuk te verbeteren. Begin April, leverden wij veilig de voltooide het Aluminium Sputterende Doelstellingen van het Hoge Zuiverheidstitanium aan onze klanten in Singapore via internationale uitdrukkelijk. Dit is de eerste keer voor de klant om tot onze sputterende doelstellingen opdracht te geven, en hij is zeer tevreden met de kwaliteit en de prijs van onze producten, en had een vriendschappelijke uitwisseling op de productgrootte, de vorm en de verwerkingstechnologie. Als om het even welk probleem tijdens gebruik voorkomt, zullen wij u de goede naverkoopdienst aanbieden.

De Legering die van het titaniumaluminium Doelstellingen in Galvaniseren sputteren verstrekt door ons bedrijf heeft de voordelen van hoogte - kwaliteit, hoge zuiverheid, eenvormige structuur, lange levensduur, goede corrosieweerstand, hoog warmtegeleidingsvermogen en concurrerende prijs, en kan goede hardheid en hoge helderheid, Anticorrosief, antioxidatie, en anti-fading film deponeren. Zijn de het Aluminium Sputterende Doelstellingen van het hoge Zuiverheidstitanium zeer geschikt voor diverse metallurgische hulpmiddeldeklagen, de deklagen van de vlak paneelvertoning (zoals horloges, mobiele telefoons en computers) en decoratieve deklagen, de verwerking van PVD en CVD-, halfgeleidercomponenten, en op het gebied van het ionen sputteren en het algemeen ook gebruikt.