99.5% 99,9% 99,95% Chrome die Doel 3x3mm 6x6mm voor Verdampingsmateriaal sputteren

Chromiumcilinder voor Verdamping 99,5%, 99,9%, 99,95%

Principe van verdampingsdeklaag:

het fysische procédé van verdampingsdeklaag van materieel verdampingsvervoer aan deposito is als volgt:

1. Zet allerlei energie in thermische energie om, verwarm het platerenmateriaal om te verdampen en of subliem, gasdeeltjes (atomen, molecules of atoomgroepen) met bepaalde energie (0.1-0.3ev) te worden;

2. Verlatend de oppervlakte van het platerenmateriaal, worden de gasachtige deeltjes met aanzienlijke snelheid vervoerd aan de oppervlakte van het substraat in een fundamenteel botsings vrije lineaire vlucht;

3. De stevige fasefilms worden gevormd door de condensatie van gasachtige deeltjes op de oppervlakte van het substraat;

4. De atomen worden die omhoog de film maken herschikt of chemisch herschikt.

Er zijn vele soorten de materialen van de verdampingsdeklaag. Momenteel, zijn er honderden hen hoofdzakelijk wordt gebruikt in de markt. Het productieproces omvat hoofdzakelijk: Kristal verpletteren, het smelten verpletteren, draadtrekken, draadknipsel, korreling, verpulveren, tablet die, enz. gieten vormen drukken. De productvorm omvat hoofdzakelijk: walsdraad, poeder, onregelmatig deeltje, kleine cilinder, kleine bal, kegel

De belangrijkste producten zijn:

als volgt: (de deeltjes, de blokken en het poeder kunnen worden aangepast) aluminiumdeeltjes 99,99% 3 * 3mm; 99.999% 3 * 3mm koperdeeltjes 99,99% 3 * 3mm; 99.999% 3 * 3mm ijzerdeeltjes 99,9% 2 * 3mm titaniumdeeltjes 99,999% 6 * 6mm vanadiumdeeltjes 99,9% 3 * 3mm nikkeldeeltjes 99,999% 6 * 6mm chromiumdeeltjes 99,95% 35mm kobaltdeeltjes 99,95% 28mm mangaandeeltjes 99,8% 1-10 mm-bariumdeeltjes 99,6% 26cm (als deoxidizer) Calciumdeeltjes 99,5% 13mm (gebruikt als deoxidizer) wolframdeeltjes 99,95% 6 * 6mm niobium deeltjes 99,95% 6 * 6mm molybdeendeeltjes 99,95% 6 * 6mm tantaliumdeeltjes 99,95% 6 * 6mm zirconiumdeeltjes 99,5% 1,6 * 5mm; 99.95% 2,4 * 5mm kristalhafnium staven 99,9% d21mm-hafnium deeltjes 99,9%.

Al van het hoge zuiverheidsaluminium, Cu van het hoge zuiverheidskoper, Ti van het hoge zuiverheidstitanium, Si van het hoge zuiverheidssilicium, hoge zuiverheids gouden Au, hoge zuiverheids zilveren AG, hoge zuiverheidsindium binnen, hoge zuiverheidsmagnesium mg, Zn van het hoge zuiverheidszink, hoge zuiverheidsplatina PT, hoge zuiverheidsgermanium Duitsland, Ni van het hoge zuiverheidsnikkel, Hoge zuiverheidstantalium Ta, gouden germaniumlegering Auge, gouden auni van de nikkellegering, de legering NiCr van het nikkelchromium, de legering van het titaniumaluminium TiAl, cuinga van de het galliumlegering van het koperindium, van het het galliumselenium van het koperindium de legering CuInGaSe, de legering van het zinkaluminium ZnAl, de legering AlSi van het aluminiumsilicium en andere materialen van de metaaldeklaag.

Nucleation en de groeitheorie van dunne filmmaterialen

1. Het spontane nucleation nucleation proces wordt aangestuurd door de vrije energie van de faseovergang.

2. Niet spontane nucleation - naast de stuwende kracht van de vrije energie van de faseovergang, zijn er andere factoren om de vorming van nieuwe fasekernen te helpen.

3. Het model van de kristalband van de filmgroei

Er zijn drie processen van atoomdeposito: het deposito of de adsorptie van het dampatoom, oppervlakteverspreiding en bulkverspreiding.

De vorming van de filmstructuur is nauw verwant aan de substraattemperatuur TS/TM en de energie van de gedeponeerde atomen. TS is de substraattemperatuur en TM is het smeltpunt van het gedeponeerde materiaal.