Sputterende het Doellegering Rod Varying Sizes Available van het titaniumaluminium

De Legeringsstaaf van het titaniumaluminium voor het 50:50 het Sputteren van de Doel (TiAl) legering/70:30 at%

Van de de Legeringsstaaf van het titaniumaluminium Diameter 80mm, 90mm, 100mm x L,
welke kan zijn cutted aan machine aan het definitieve grootte sputterende doel
Na de ontwikkeling van het sputteren van deklaagtechnologie de laatste jaren, is de deklaagtechnologie voor diverse materialen zeer perfect geweest. Het betoveren van bedrijf verstrekt een volledige waaier van het sputteren van deklaagdoelstellingen (met inbegrip van metaaldoelstellingen, legering en middenlegeringsdoelstellingen, ceramische doelstellingen) aan hogescholen en universiteiten, wetenschappelijke onderzoeksinstellingen, industriële en mijnbouwondernemingen.
Magnetron het sputteren doel materiële vormende methode: de materiële vormende methode wordt geselecteerd volgens de productprestaties en de verschillende behoeften van klanten. In het algemeen, wanneer het smeltpunt van materialen laag is, is het noodzakelijk om het vacuüm smelten, het gieten, smeedstuk en het rollen te gebruiken om poreusheid te elimineren. Natuurlijk, is de efficiënte thermische behandeling noodzakelijk om het eenvormige korrelmateriaal te raffineren. De materialen met hoog smeltpunt (of de materialen met hoge broosheid) worden gevormd door hete te drukken of hete isostatic te drukken, en wat worden gevormd door koude isostatic te drukken en dan gesinterd. Allerlei die het sputteren van doelmaterialen door ons bedrijf worden verstrekt hebben juiste technologie, hoogte - dichtheid, eenvormige korrel en snakken levensduur…
 

Andere compostion: 50:50 at% 80:20 at% 70:30 at% 40:60 at% 33:67 at%
 
De belangrijkste producten zijn:
 
Al van het hoge zuiverheidsaluminium, Cu van het hoge zuiverheidskoper, Ti van het hoge zuiverheidstitanium, Si van het hoge zuiverheidssilicium, hoge zuiverheids gouden Au, hoge zuiverheids zilveren AG, hoge zuiverheidsindium binnen, hoge zuiverheidsmagnesium mg, Zn van het hoge zuiverheidszink, hoge zuiverheidsplatina PT, hoge zuiverheidsgermanium Duitsland, Ni van het hoge zuiverheidsnikkel, Hoge zuiverheidstantalium Ta, gouden germaniumlegering Auge, gouden auni van de nikkellegering, de legering NiCr van het nikkelchromium, de legering van het titaniumaluminium TiAl, cuinga van de het galliumlegering van het koperindium, van het het galliumselenium van het koperindium de legering CuInGaSe, de legering van het zinkaluminium ZnAl, de legering AlSi van het aluminiumsilicium en andere materialen van de metaaldeklaag.