Verzoek om een Citaat
Dutch
Thuis ProductenSputterende DoelstellingenHet Chromium Sputterende Doelstellingen die van het Alcraluminium voor Carbidehulpmiddelen met een laag bedekken
Alcr Aluminum Chromium Sputtering Targets Coating For Carbide Tools
Alcr Aluminum Chromium Sputtering Targets Coating For Carbide Tools
Alcr Aluminum Chromium Sputtering Targets Coating For Carbide Tools Alcr Aluminum Chromium Sputtering Targets Coating For Carbide Tools Alcr Aluminum Chromium Sputtering Targets Coating For Carbide Tools

Het Chromium Sputterende Doelstellingen die van het Alcraluminium voor Carbidehulpmiddelen met een laag bedekken

Productdetails:
Plaats van herkomst: China
Merknaam: JINXING
Certificering: ISO 9001
Modelnummer: Het Sputterende Doel van het aluminiumchromium
Betalen & Verzenden Algemene voorwaarden:
Min. bestelaantal: 1kg
Prijs: 20～150USD/kg
Verpakking Details: TRIPLEX GEVAL
Levertijd: 10~25 het werkdagen
Betalingscondities: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Levering vermogen: 100000kgs/M
Contact nu

Gedetailleerde informatie
Materiaal: De Legering van het aluminiumchromium (AlCr) Proces: CIP, HEUP het Drukken
Grootte: Aangepast toepassing: pvd deklaagsysteem
Vorm: Ronde, Plaat, Buis Korrelgrootte: Fijne Korrelgrootte, Goede dichtheid
Hoog licht:

Chromium Sputterende Doelstellingen

,

Het Chromium Sputterende Doelstellingen van het Alcraluminium

,

Sputterende Doelstellingen voor Carbidehulpmiddelen

Productomschrijving

Aluminiumchromium het 70:30 het Sputteren van de Doel (AlCr) legering/50:50 at%

Na de ontwikkeling van het sputteren van deklaagtechnologie de laatste jaren, is de deklaagtechnologie voor diverse materialen zeer perfect geweest. Het betoveren van bedrijf verstrekt een volledige waaier van het sputteren van deklaagdoelstellingen (met inbegrip van metaaldoelstellingen, legering en middenlegeringsdoelstellingen, ceramische doelstellingen) aan hogescholen en universiteiten, wetenschappelijke onderzoeksinstellingen, industriële en mijnbouwondernemingen.

 

Toepassingsgebied van het sputteren van deklaag: De sputterende deklaag wordt wijd gebruikt in de verpakking van deklaag, decoratiedeklaag, architecturale glasdeklaag, automobiele glasdeklaag, de lage deklaag van het stralingsglas, vlak paneelvertoning, optische mededeling/de optische industrie, de optische industrie van de gegevensopslag, de optische industrie van de gegevensopslag, de magnetische industrie van de gegevensopslag, optische deklaag, halfgeleidergebied, automatisering, zonne-energie, medische behandeling, zelfsmeringsfilm, de deklaag van het condensatorapparaat, andere functionele deklaag, enz. (klik om de gedetailleerde inleiding in te gaan)


Sputterende doelbackplane levering, dienst de plakkend: het centrum verstrekt een verscheidenheid van sputterende doelbackplane, met inbegrip van zuurstofvrij koper, molybdeen, aluminium, roestvrij staal en andere materialen. Tegelijkertijd, verleent het de lassendienst tussen het doel en de achterplaat.

 

Is het Sputterende Doel van het aluminiumchromium, de Legerings Sputterend Doel van het Aluminiumchromium beschikbaar in variërende grootte

 

D100x40mm D65x35mm enz.

 

 

  Dichtheid (g/cm3) Daadwerkelijke dichtheid (g/cm3) Compactheid density%
Cr30Al70at% 2N8 3,763 3,764 >99%

 

Grootte:

 

Plaat sputterende doelstellingen:

 

Dikte: 0,04 tot 1,40“ (1,0 tot 35mm).

Breedte tot 20“ (50 tot 500mm).

Lengte: 3.9“ aan voeten 6.56 (1002000mm)

andere grootte zoals gevraagd.

 

Cilinder sputterende doelstellingen:

 

3.94 Dia. x 1,58“ (100 Dia. x 40mm)

2.56 Dia. x 1,58“ (65 Dia. x 40mm)

of 63*32mm andere grootte zoals gevraagd.

 

Buis sputterende doelstellingen:

 

2.76 OD x 0,28 GEWICHTEN x 39,4“ L (70 OD x 7 GEWICHT x 1000mm L)

3.46 OD x 0,39 GEWICHTEN x 48,4“ L (88 OD x 10 GEWICHT x 1230mm L)

andere grootte zoals gevraagd.

 

Gebaseerd op de thermodynamische analyse van het vacuüm het sinteren proces van zuiver chromiumdoel voor magnetron het sputteren, werden de noodzakelijke voorwaarden voor het het sinteren proces en werden duidelijk gemaakt toegepast op de het sinteren praktijk. Het sputterende doel met zuurstofgehalte minder dan 0,07% werd met succes bereikt.

 

 

Cr-Al Legeringsdoel


Het Doel van de CrAllegering


Producttypes:


Cr50% Al50% doel Cr30% Al70% doel


Toepassingsgebied


Op het gebied van deklaag voor hulpmiddelen zoals carbidehulpmiddelen en thermische behandelingsmatrijzen, kunnen de slijtageweerstand van de deklaag en de de diensttemperatuur van de deklaag worden verbeterd


Doelspecificatie

 

Component


Cr Al Alloy Series: Cr50% Al50%; Cr30% Al70%; Cr25% Al75%


Cr-Al legeringsreeks: Cr Al Si, Cr Al Ti, enz.


korrelgrootte


< 70="">


zuiverheid


≥99.9% (3N)


Onzuiverheidsinhoud


< 0="">

 

 

Het Chromium Sputterende Doelstellingen die van het Alcraluminium voor Carbidehulpmiddelen met een laag bedekken 0

label:

Wolfram Sputterend Doel

metaal sputterende doelstellingen

het titanium sputtert doel

Neem contact op met ons

Ga Uw Bericht in

Je zou deze kunnen zijn