Bericht versturen
Verzoek om een Citaat
Dutch
  • English
  • French
  • German
  • Italian
  • Russian
  • Spanish
  • Portuguese
  • Dutch
  • Greek
  • Japanese
  • Korean
  • Arabic
  • Turkish
  • Persian
  • Polish
Thuis ProductenSputterende DoelstellingenDe Legerings Sputterende Doelstellingen van het kobaltchromium, het Sputterende hoogst Zuivere Doel van het Kobaltchromium
Cobalt Chromium Alloy Sputtering Targets, Cobalt Chromium Sputtering Target Highly Pure
Cobalt Chromium Alloy Sputtering Targets, Cobalt Chromium Sputtering Target Highly Pure
Cobalt Chromium Alloy Sputtering Targets, Cobalt Chromium Sputtering Target Highly Pure Cobalt Chromium Alloy Sputtering Targets, Cobalt Chromium Sputtering Target Highly Pure Cobalt Chromium Alloy Sputtering Targets, Cobalt Chromium Sputtering Target Highly Pure Cobalt Chromium Alloy Sputtering Targets, Cobalt Chromium Sputtering Target Highly Pure Cobalt Chromium Alloy Sputtering Targets, Cobalt Chromium Sputtering Target Highly Pure

De Legerings Sputterende Doelstellingen van het kobaltchromium, het Sputterende hoogst Zuivere Doel van het Kobaltchromium

Productdetails:
Plaats van herkomst: China
Merknaam: JINXING
Certificering: ISO 9001
Modelnummer: Chromium Sputterend Doel
Betalen & Verzenden Algemene voorwaarden:
Min. bestelaantal: 1kg
Prijs: 20～100USD/kg
Verpakking Details: triplexgeval
Levertijd: 10~25 het werkdagen
Betalingscondities: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Levering vermogen: 100000kgs/M
Contact nu

Gedetailleerde informatie
Toepassing: PVD-Deklaag, Materiaal: Chromium, Chrome
Proces: CIP, HEUP het Drukken Grootte: Aangepast
Dichtheid: 7.19g/cm3 Vorm: Ronde, Plaat, Buis Sputterend doel
Korrelgrootte: Fijne Korrelgrootte, Goede dichtheid Zuiverheid: 99.5%, 99.9%, 99.95%

Productomschrijving

De Legerings Sputterende Doelstellingen van het kobaltchromium

Productomschrijving

XINXIANG FANMETAL in hoge opbrengst - kwaliteits sputterend doel, ceramisch doel, metaaldoel. De producten worden toegepast op diverse gebieden van vacuümdeklaag door diverse methodes (magnetron het sputteren, vacuümplateren, enz.): Wetenschappelijk onderzoek, ruimtevaart, automobiel, micro-elektronica, de industrie van geïntegreerde schakelingen, lichtbron, optica, decoratie, de industrie van de vlak paneelvertoning, de industrie van de informatieopslag, gegevensopslag etc.

Product: Chrome/het sputterende doel van Chromium/Cr

Zuiverheid: 99.5%, 99.9%, 99.95%

Grootte: customizedShape: ronde of rechthoekig

Technologie: HEUP

Toepassing: pvd de deklaagindustrie

Verpakking: vacuümverpakking, de uitvoerkarton of houten geval buiten

Eigenschap

1.high smeltpunt

2.corrosion weerstand

3.good de koude kenmerken van de het werkcapaciteit

De Legerings Sputterend Doelstellingen van het kobaltchromium Beeld:

De Legerings Sputterende Doelstellingen van het kobaltchromium, het Sputterende hoogst Zuivere Doel van het Kobaltchromium 0

De Legerings Sputterende Doelstellingen van het kobaltchromium, het Sputterende hoogst Zuivere Doel van het Kobaltchromium 1
De Legerings Sputterende Doelstellingen van het kobaltchromium, het Sputterende hoogst Zuivere Doel van het Kobaltchromium 2

label:

Wolfram Sputterend Doel

metaal sputterende doelstellingen

het titanium sputtert doel

Neem contact op met ons

Ga Uw Bericht in

Je zou deze kunnen zijn