4N Nikkel Ni Doel

Productomschrijving

Overzicht

4N Nickel Ni Target is een hoogzuiver nickelgebaseerd sputteringdoelmateriaal.en chemische stabiliteitHet kan worden gebruikt in de halfgeleider- en magnetische opname-industrie, evenals in high-end functionele coating toepassingen.een stabiele ondersteuning bieden voor velden met strenge eisen aan dunne filmprestaties.

Kenmerken van nikkel

• Nickel heeft een hoge thermische geleidbaarheid, en hoewel tijdens het sputteren aanzienlijke warmte wordt gegenereerd, voorkomt de uitstekende thermische geleidbaarheid een lokale oververhitting en barsten in het doel.
• Een hoge en stabiele elektrische geleidbaarheid zorgt voor een efficiënte overdracht van sputterkracht en vermindert energieverlies.
• Hoge zuiverheidsnickel heeft een uniforme metalen structuur, waardoor tijdens het sputteren stabiele deeltjes vrijkomen, waardoor de kwaliteit en precisie van de gedeponeerde films worden gewaarborgd.
• Nickel wordt niet gemakkelijk geoxideerd of reageert met andere gassen in een vacuümomgeving, waardoor de introductie van onzuiverheden tijdens het sputteren wordt verminderd en de zuiverheid van de film wordt gewaarborgd.
• Nickel heeft een uitstekende buigzaamheid en plasticiteit, waardoor het kan worden verwerkt tot doelen van verschillende grootte en dikte door smeden, rollen en snijden.aanpassing aan de kamerstructuren van verschillende spuitapparatuur.

4N Nickel Ni Doelgrootte

Toepassing

1. Halveringsindustrie

• Halve geleiders zijn een van de belangrijkste toepassingen van 4N Nickel Ni Target, waarbij vooral gebruik wordt gemaakt van hun hoge zuiverheid en sputteringstabiliteit om de nauwkeurigheid en betrouwbaarheid van chipcircuits te garanderen.met een breedte van niet meer dan 50 mmMet nickeldoelen worden metalen elektrodelagen geplaatst, waardoor stroom binnen de chip kan worden overgedragen.
• Nickel dunne films fungeren als een barrière, waardoor koperatomen niet in de isolatielaag van de chip kunnen diffuneren, waardoor kortsluitingen en prestatievermindering voorkomen worden.

2Magnetische opname-industrie

• Nikkel bezit bepaalde magnetische eigenschappen, en de stabiele magnetische doorlaatbaarheid na sputtering maakt het een belangrijk doelmateriaal in de magnetische opname-industrie.rechtstreeks van invloed zijn op de capaciteit en de lees/schrijfsnelheid van opslagapparatenNikkeldoelen worden gebruikt om magnetische functionele lagen op te leggen in harde schijfkoppen, magnetische opslagfilms, magnetische banden en magnetische kaarten,verbetering van de opslagdichtheid en de nauwkeurigheid van het lezen/schrijven van gegevens.
• In magnetische sensoren (zoals ABS-sensoren voor auto's en industriële positiesensoren) dienen dunne folies op basis van nikkel als magnetische sensorschermen, waardoor de gevoeligheid en stabiliteit van de sensoren worden verbeterd.

3Decoratieve en functionele coatings

• Doelsputtering creëert een glanzende decoratieve laag op de oppervlakken van tafelgerei, lampen, hardware-accessoires en auto-interieurs van roestvrij staal.Het verbetert ook de slijtvastheid van het oppervlak en voorkomt schrammen en oxidatie bij dagelijks gebruik..
• Het afleggen van dunne folies op basis van nikkel op glas- en metaaloppervlakken verbetert de corrosiebestendigheid en UV-verouderingsbestendigheid, waardoor de levensduur van het product wordt verlengd.

4Nieuwe energie en andere gebieden

• Nickel dunne folies kunnen worden gebruikt als geleidende versterkingslagen of corrosiebestendige coatings op de huidige collectoren van lithium-ion- en vaste batterijen,verbetering van het laad- en ontladingspercentage van de batterij en de levensduur van de batterij.
• In elektrodecoatings voor sommige fotovoltaïsche modules, alsook in optische dunne films zoals infraroodreflecterende films en privacyfilms,nickeldoelen kunnen dienen als hulps functioneel lagen om de prestaties van opto-elektronica apparaten te optimaliseren.

Proces

1 Chemische zuivering wordt gebruikt om in eerste instantie onzuiverheden te verwijderen, gevolgd door ultrazuivering door middel van vacuümelektronenstraalsmelting om ervoor te zorgen dat de zuiverheid van nikkel 4N-klasse bereikt.

2 Het gesmolten nikkelbalk wordt in een vacuümomgeving gegoten en wordt met warm isostatisch persing verwijderd van de interne porositeit en de doeldichtheid wordt gewaarborgd.

3 Het nikkelbalk wordt meerdere malen gewalst of gesmeed om de gewenste dikte en korrelstructuur te bereiken, waarbij er tussendoor een vacuümglans wordt uitgevoerd om hardheid te voorkomen.

4 Het doelwit wordt gesneden met behulp van ultra-precieze draad of laser, met dimensie-toleranties die binnen ± 0,5 mm worden gecontroleerd.

5 Chemisch-mechanisch polijsten wordt gebruikt om de oppervlaktrauwheid te verminderen en te voldoen aan de vereisten voor een zeer uniforme sputtering.

6 Er worden strenge kwaliteitscontroles uitgevoerd, waaronder zuiverheidsanalyses, prestatie- en niet-destructieve tests.

Andere legeringsdoelen

4N Nickel Ni Target Pictures