Zirconium Draaibaar Sputterend Doel voor PVD-de Hoogte van het Deklaagsysteem - dichtheid

Het BETOVEREN van bedrijfnadruk op het sputterende doel (het Draaibare sputterende doel, Vlak Sputterend doel, bespuit Roterend sputterend doel, Edel Metaal sputterend doel en Verdampingsmateriaal. Materiaal incluidng (Ti-Titanium, TiAl, TiSi, TiZr, Zr-Zirconium, Cr Chrome, Mo, w-Wolfram, WTi, Cu, Ni, Ta, Nb).

• Het hete Drukken
• Het hete Isostatic Drukken (HEUP)
• Het koude Isostatic Drukken (CIP)
• Het vacuüm Sinteren
• Inductie het Smelten
• Het vacuüm Smelten & Gieten
• Boog het Smelten
• Elektron-straal het Smelten
• Plasma het Bespuiten
• Co-precipitatie

Het BETOVEREN heeft een volledige lijn van roterende kathode sputterende doelstellingen ontwikkeld. De materialen zijn of continu gegoten, uitgedreven, bespoten HIP'ed of het plasma om technologische voorsprong in roterend ontwerp te verstrekken. Bovendien kunnen de unieke profielen voor specifieke toepassingen worden ontwikkeld om doelstellingen voor betere slijtagekarakterisering, het langere leven, unieke fysieke kenmerken of veranderde metallurgische eigenschappen te verstrekken.

Zirconium Draaibaar Sputterend Doel, Zirconium Draaibaar Doel, Zirconium Sputterend Doel, Zirconium Roterend Sputterend Doel, Zirconium Roterend Sputterend Doel.