Van de de Filmdeklaag van PVD Dunne het Molybdeen Sputterende Doelstellingen

Molybdeen Sputterend Doel voor Dunne Filmdeklaag

Productomschrijving:

1. Rang: Mo1, TZM, MoNb-legering.

2. Zuiverheid: > =99.95%

3. Kenmerk:

Smeltpunt: 2610°C

Kookpunt: 5560°C

Dichtheid: 10.2g/cm3

Hoog - kwaliteit, bruikbaarheid

4. Certificaat: ISO9002

5. Producteigenschap: Hoog smeltpunt, High-density, oxydatieweerstand op hoge temperatuur, lange levensduur, weerstand tegen corrosie.

Het smeltpunt van met een laag bedekt molybdeen sputterend doel is 2610℃ en is het kookpunt 5560 ℃. En de zuiverheid van het kan tot 99,95%.

Het met een laag bedekte molybdeen sputterende doel heeft etc. heel wat voordelen zoals hoog smeltpunt, hoge fysieke sterkte, hoge elasticiteitsmodulus, grote warmtegeleidingsvermogen en corrosieweerstand.

Toepassing:

· De elektronische industrie als PCB-deklaag;

· Vlak Comité de Vertoningsindustrie als LCD deklaag;

· Optische deklaag

· Elektronische halfgeleider

· Sputterende materiële & vacuümdeklaag;

· PVD-filmdeklaag enz.

Beeld van het molybdeen het Sputterende Doel: