De Gebaseerde Sputterende Doelstellingen van de corrosieweerstand Molybdeen

Productdetails:
Plaats van herkomst: CHINA
Merknaam: JINXING
Certificering: ISO 9001
Modelnummer: Molybdeen Sputterend Doel
Betalen & Verzenden Algemene voorwaarden:
Min. bestelaantal: 1Kg
Verpakking Details: Triplexgeval
Levertijd: 10~25 het werkdagen
Betalingscondities: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Levering vermogen: 100000kgs/M

Gedetailleerde informatie

Materiaal: Molybdeen Sputterend Doel Kleur/verschijning: Grijs, Metaal
Grootte: Aangepast Toepassing: pvd deklaagsysteem
Vorm: ronde, doel, schijf Korrelgrootte: Fijne Korrelgrootte, Goede dichtheid
Zuiverheid:: 99.95% Dichtheid: 10.2g/cm3
Hoog licht:

Molybdeen Gebaseerde Sputterende Doelstellingen

,

Vlakke het Comité van ISO Sputterende Doelstellingen

,

De Sputterende Doelstellingen van de corrosieweerstand

Productomschrijving

Molybdeen-gebaseerde Sputterende Doelstellingen in Vlak Comité

Beschrijving:

Wordt het molybdeen sputterende doel wijd gebruikt in de productie van LCD en touche screnen (panelen). Het wordt ook gebruikt voor zonnecellen en het zonnewater verwarmen. Wij kunnen zuivere molybdeen en van de molybdeenlegering doelstellingen van verschillende vormen, met inbegrip van schijf, vlak, roterende evenals douanedoelstellingen voorzien.

Zuiver molybdeen

Mo >99.95%

Eigenschappen van onze molybdeenniobium (Mo10Nb) sputterende doelstellingen en andere doelstellingen van de molybdeenlegering

- Hoge dichtheid, om hogere het sputteren tarieven en van betere kwaliteit film toe te laten

- Corrosieweerstand
- Lage elektrische weerstand
- Grote consistentie
- Hoge temperatuurweerstand

Is het molybdeen sputterende doel doel met hoge zuiverheid en evenwichtige matrijzengrootte en distributie.

Wordt het molybdeen sputterende doel gebruikt in de micro-electronisch, vlak paneelvertoning, de gegevensopslag, de optische glasdeklaag en andere industrieën. En het wordt gebruikt in vacuümdeklaag, zoals decoratieve materialen, hardwarehulpmiddelen, lensdeklagen, enz.

Verwante Producten

 

Productnaam Element Purirty Smeltpunt ℃ Dichtheid (g/cc) Beschikbare Vormen
Hoge Zuivere Strook Ag 4N-5N 961 10.49 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Aluminium Al 4N-6N 660 2.7 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Goud Au 4N-5N 1062 19.32 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Bismut Bi 5N-6N 271.4 9.79 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Cadmium CD 5N-7N 321.1 8.65 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Kobalt Co 4N 1495 8.9 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Chromium Cr 3N-4N 1890 7.2 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Koper Cu 3N-6N 1083 8.92 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoge Zuivere Ferro Fe 3N-4N 1535 7.86 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Germanium Duitsland 5N-6N 937 5.35 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Indium In 5N-6N 157 7.3 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Magnesium Mg 4N 651 1.74 Draad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Magnesium Mn 3N 1244 7.2 Draad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Molybdeen Mo 4N 2617 10.22 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoge Zuivere Niobium Nb 4N 2468 8.55 Draad, Doel
Hoog Zuiver Nikkel Ni 3N-5N 1453 8.9 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Lood Pb 4N-6N 328 11.34 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Palladium Pd 3N-4N 1555 12.02 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Platina PT 3N-4N 1774 21.5 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Silicium Si 5N-7N 1410 2.42 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Tin Sn 5N-6N 232 7.75 Draad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Tantalium Ta 4N 2996 16.6 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Tellurium Te 4N-6N 425 6.25 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Titanium Ti 4N-5N 1675 4.5 Draad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Wolfram W 3N5-4N 3410 19.3 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Zink Zn 4N-6N 419 7.14 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Zirconium Zr 4N 1477 6.4 Draad, Blad, Deeltje, Doel

 

Beeld van het molybdeen het Sputterende Doel:

De Gebaseerde Sputterende Doelstellingen van de corrosieweerstand Molybdeen 0

De Gebaseerde Sputterende Doelstellingen van de corrosieweerstand Molybdeen 1

Neem contact op met ons

Ga Uw Bericht in

Je zou deze kunnen zijn