Verzoek om een Citaat
Dutch
Thuis ProductenSputterende DoelstellingenOpgepoetste het Molybdeen Sputterende Doelstellingen van ASTM B386 PVD
ASTM B386 PVD Polished Molybdenum Sputtering Targets
ASTM B386 PVD Polished Molybdenum Sputtering Targets ASTM B386 PVD Polished Molybdenum Sputtering Targets

Opgepoetste het Molybdeen Sputterende Doelstellingen van ASTM B386 PVD

Productdetails:
Plaats van herkomst: CHINA
Merknaam: JINXING
Certificering: ISO 9001
Modelnummer: Molybdeen om Doel
Betalen & Verzenden Algemene voorwaarden:
Min. bestelaantal: 1Kg
Verpakking Details: Triplexgeval
Levertijd: 10~25 het werkdagen
Betalingscondities: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Levering vermogen: 100000kgs/M
Contact nu

Gedetailleerde informatie
Materiaal: Molybdeen om Doel Kleur/verschijning: Grijs, Metaal
Grootte: Aangepast Toepassing: pvd deklaagsysteem
Vorm: ronde, doel, schijf Korrelgrootte: Fijne Korrelgrootte, Goede dichtheid
Zuiverheid:: 99.95% Dichtheid: 10.2g/cm3
Hoog licht:

Opgepoetste Molybdeen Sputterende Doelstellingen

,

De Sputterende Doelstellingen van PVD

,

De Sputterende Doelstellingen van ASTM B386

Productomschrijving

Opgepoetst oppervlaktemolybdeen om het Sputteren van Doelmetaal voor PVD

Het molybdeen is een zilveren-wit metaal, hard en het taaie, hoge smeltpunt, hoog warmtegeleidingsvermogen, molybdeen heeft de voordelen van smeltpunt met hoge weerstand, hoog, corrosieweerstand, slijtageweerstand, enz.,

Molybdeen Sputterende Doelstellingen, Molybdeen om doel, Wolfram Sputterende Doelstellingen
Merk: Mo1, Mo3G, TZM
Specificatie: Volgens de behoeften van gebruikers

Het molybdeen om het Sputteren van Doel is een nieuw type van methode de Fysieke van het Dampdeposito (PVD). Het sputteren wordt wijd gebruikt in: Vlak paneelvertoningen, de glasindustrie (omvat architecturaal glas, automobielglas, optisch filmglas), zonnecellen, oppervlaktetechniek, opnamemedia, micro-elektronica, automobiellichten en decoratieve deklaag, etc….
Speciale vereisten die door de leverancier en de koper van onderhandeling zijn moeten overeengekomen

 

Productnaam Molybdeen om het Sputteren van Doel
Materiaal 99.95% molybdeen
Oppervlakte Rolling, Zwarte, Alkali Opgepoetste was, Grond,
Norm ASTM B386 EN ASTM B387
Zuiverheid 99,95% min
Dichtheid 10.2g/cm3
Vorm Aanpassing
Grootte Volgens uw vereisten
Smeltpunt 2610℃
Certificatie Overgegaane ISO9001

 

 

Productnaam Element Purirty Smeltpunt ℃ Dichtheid (g/cc) Beschikbare Vormen
Hoge Zuivere Strook Ag 4N-5N 961 10.49 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Aluminium Al 4N-6N 660 2.7 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Goud Au 4N-5N 1062 19.32 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Bismut Bi 5N-6N 271.4 9.79 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Cadmium CD 5N-7N 321.1 8.65 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Kobalt Co 4N 1495 8.9 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Chromium Cr 3N-4N 1890 7.2 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Koper Cu 3N-6N 1083 8.92 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoge Zuivere Ferro Fe 3N-4N 1535 7.86 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Germanium Duitsland 5N-6N 937 5.35 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Indium In 5N-6N 157 7.3 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Magnesium Mg 4N 651 1.74 Draad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Magnesium Mn 3N 1244 7.2 Draad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Molybdeen Mo 4N 2617 10.22 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoge Zuivere Niobium Nb 4N 2468 8.55 Draad, Doel
Hoog Zuiver Nikkel Ni 3N-5N 1453 8.9 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Lood Pb 4N-6N 328 11.34 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Palladium Pd 3N-4N 1555 12.02 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Platina PT 3N-4N 1774 21.5 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Silicium Si 5N-7N 1410 2.42 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Tin Sn 5N-6N 232 7.75 Draad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Tantalium Ta 4N 2996 16.6 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Tellurium Te 4N-6N 425 6.25 Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Titanium Ti 4N-5N 1675 4.5 Draad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Wolfram W 3N5-4N 3410 19.3 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Zink Zn 4N-6N 419 7.14 Draad, Blad, Deeltje, Doel
Hoog Zuiver Zirconium Zr 4N 1477 6.4 Draad, Blad, Deeltje, Doel

 

Molybdeen om Doelbeeld:

Opgepoetste het Molybdeen Sputterende Doelstellingen van ASTM B386 PVD 0

Opgepoetste het Molybdeen Sputterende Doelstellingen van ASTM B386 PVD 1

label:

Wolfram Sputterend Doel

metaal sputterende doelstellingen

het titanium sputtert doel

Neem contact op met ons

Ga Uw Bericht in

Je zou deze kunnen zijn