Verzoek om een Citaat
Dutch
Thuis ProductenSputterende DoelstellingenDe Legering van het titaniumaluminium het Sputteren Doelstellingen HEUP het Drukken
Titanium Aluminum Alloy Sputtering Targets HIP Pressing
Titanium Aluminum Alloy Sputtering Targets HIP Pressing Titanium Aluminum Alloy Sputtering Targets HIP Pressing Titanium Aluminum Alloy Sputtering Targets HIP Pressing

De Legering van het titaniumaluminium het Sputteren Doelstellingen HEUP het Drukken

Productdetails:
Plaats van herkomst: CHINA
Merknaam: JINXING
Certificering: ISO 9001
Modelnummer: Het Sputterende Doel van het titaniumaluminium
Betalen & Verzenden Algemene voorwaarden:
Min. bestelaantal: 1kg
Verpakking Details: triplexgeval
Levertijd: 10~25 het werkdagen
Betalingscondities: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union
Levering vermogen: 100000kgs/M
Contact nu

Gedetailleerde informatie
Materiaal: De legering van het titaniumaluminium (TiAl) Grootte: Aangepast
Toepassing: pvd deklaagsysteem Vorm: Ronde, Plaat, Buis
Proces: CIP, HEUP het Drukken Korrelgrootte: Fijne Korrelgrootte, Goede dichtheid
Hoog licht:

De Sputterende Doelstellingen van de aluminiumlegering

,

Titanium Sputterende Doelstellingen

,

HEUP Dringende Sputterende Doelstellingen

Productomschrijving

Titanium het Sputteren doelgrootte

1. Rond doel: Ø30--2000mm, dikte 3.0mm--300mm; 2. Plaat Targe: Lengte: 200500mm Breedte: 100230mm Dikte: 3--40mm3. Buisdoel: Dia: 30200mm Dikte: 520mm Lengte: 500-2000mm4. Aangepast wordt beschikbaar

Rang

Van de titanium (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, GR12) Legering het doel: Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr enz.

Zuiverheid

99.5%, 99.95% die, metaal 99.98% 9999 pvd de sputterende doelstellingen van de titaniumlegering schieten

Certificatie

ISO-9001:2015 & Gouden meer suppier op ALIBABA, het Materiële Rapport van de Molentest

Techniek

Het vacuüm Smelten, Gepatenteerd thermomechanisch proces

Vorm

Rond doel, Buisdoel, Vlak doel, volgens uw verzoek

Toepassing

Halfgeleiderscheiding, de materialen van de Filmdeklaag, de deklaag van de Opslagelektrode, Sputterende deklaag, Oppervlaktedeklaag, de industrie van de Glasdeklaag.

Van de het Aluminium (Ti-Al) Legering van het hoge Zuiverheids de Sputterende Doelstellingen Titanium

Chemische Formule: Al/Ti

Zuiverheid: 99.9%, 99.95%, 99.99%, 99.995%, 99.999%

Vorm: Schijven, Platen, Kolomdoelstellingen, Naar maat gemaakte Stapdoelstellingen,

Het sputterende doel van het aluminiumtitanium is beschikbaar in diverse vormen, zuiverheid, grootte, en prijzen.

 

Kan het de legerings sputterende doel van het titaniumaluminium worden gemaakt door twee manieren HEUP en te smelten. De sputterende doelstellingen van het Titaniumaluminium zijn beschikbaar in een uitvoerige waaier van samenstellingen, zuiverheidsniveaus, vormen, en afmetingen. Bijvoorbeeld, de meeste gemeenschappelijke formulieren van doelstellingen met inbegrip van ronde, rechthoekige, ring en buis.

Zij zijn in enige of veelvoudige sectiesbouw afhankelijk van de grootte van het sputterende doel Ti-Al en de eigenschappen van het materiaal. Wij kunnen aanpassen om uw behoeften aan te passen.

Productinleiding

Van de het Aluminium (Ti-Al) Legering van het hoge Zuiverheids Sputterend de Doelstellingen Titanium Beeld:

De Legering van het titaniumaluminium het Sputteren Doelstellingen HEUP het Drukken 0De Legering van het titaniumaluminium het Sputteren Doelstellingen HEUP het Drukken 1

De Legering van het titaniumaluminium het Sputteren Doelstellingen HEUP het Drukken 2

label:

Wolfram Sputterend Doel

metaal sputterende doelstellingen

het titanium sputtert doel

Neem contact op met ons

Ga Uw Bericht in

Je zou deze kunnen zijn