Ti-het Sputteren Doelstellingen Informatie:
Het heeft een smeltpunt van 1,660°C, een dichtheid van 4,5 g/cc, en een dampdruk van 10-4 Torr bij 1,453°C. Het is een stevig materiaal dat gemakkelijk wordt vervaardigd wanneer de hitte wordt toegepast. Zijn sterke, lichtgewichtkenmerken en uitstekende corrosieweerstand maken tot het ideaal voor lijnbootschillen, vliegtuigenmotoren, en ontwerperjuwelen. Het titanium is biocompatibel zodat kan het in chirurgische hulpmiddelen en implants worden gevonden. Het titanium is over het algemeen verdampt in vacuüm voor slijtage en decoratief, halfgeleider, en optische deklagen.
De aangepaste Sputterende Doelstellingen van Ti zijn op verzoek beschikbaar. Wij kunnen douane de sputterende doelstellingen van Ti maken om aan klant-specifieke eisen en tekeningen te voldoen.
Titanium Sputterende Doelstellingen (Ti-doel)
· Materiaal: Hoge zuiverheid (99,5%, 99,995%), ASTM-rang 1, ASTM-rang 2, TiAl6V4
· Norm: ASTM B 337/B338, ASTM B385-91, ASTM381, ISO 5832/2, JIS H4650, DIN 17851
· Vorm: Schijven (Diameter <350mm>1mm Rechthoek (Lengte 1800mm, Breedte 400mm Thickness>1mm-Buis (Rotory-doel, OD: 20mm~160mm, Dikte: 220mm, Lengte: naar maat gemaakte OD>160, Dikte >8mm, lengte <200>
· Toepassing: Gedeponeerd filmnitride zoals verfraaien dunne film, Gedeponeerde die film aan TiO2 als straalsplitser wordt geoxydeerd of isolatie
Sputterend de Doelstellingen van Ti beeld:
Uw bericht moet tussen de 20-3.000 tekens bevatten!