Ti70% Al30% Tial Doel in niet corrosieve kleppen

Productomschrijving

De Doelstellingen van Ti70al30tial

Kunnen de titanium-aluminium legerings sputterende doelstellingen (TiAl-Doelstellingen) op twee manieren worden vervaardigd: HEUP en het smelten. Het doel door HEUP zal hogere dichtheid zijn. Het doel door het smelten zal een hogere zuiverheid hebben. Alles is gebaseerd op uw toepassing.

Zuiverheid: Al-Ti35/65 at% Al/Ti 50: 50 at%, 99,95%, 99,5%

Vorm: Schijven, Plaat, Stap (Dia ≤300mm, Dikte ≥1mm) Rechthoek, Blad, Stap (Lengte ≤1000mm, Breedte ≤300mm, Dikte ≥1mm) Buis (Diameter2mm< 300mm="">)

Gebruik: Hoofdzakelijk gebruikt voor hulpmiddeldeklaag, niet corrosieve kleppen/chemische installaties, de scheepsbouwindustrie.

TiAl Sputterend Doel, Hoogte - de Rechte kwaliteit, Monolithisch, Draaibaar, Cilindrisch, Dogbone, het Vlak, Kathodische ARC, PVD-Deklaag, verdunt Filmdeposito, Sputterende de Doelstellingen van TiAl Fabrikant en Leverancier

Van het TITANIUMaluminium (TiAl) het SPUTTERENDE DOEL

Van het titaniumaluminium de het Nitride (TiAlN) deklaag wordt geadviseerd voor toepassingen waar de hittebestendigheid en de extreme hardheid voor schurende materialen worden vereist. Het is een krachtige deklaag die in schuurmiddel en moeilijk-aan-machinematerialen zoals gietijzer, aluminiumlegeringen, hulpmiddelstaal, en nikkellegeringen uitblinkt.

De de sputterende doelstellingen en kathoden het betoveren van van het Titaniumaluminium (TiAl) kan u verstrekken een opmerkelijke oxydatie-bestand nitridedeklaag (TiAlN) die goed uw boren zal beschermen, het malenmachines, index-able knipsel opneemt en al soort ander knipsel de hulpmiddelen tegen slijtage en daarom hun levensduur uitbreidt.

Betoverend de Sputterende Doelstellingen van het Titaniumaluminium (TiAl) omvat de roterende sputterende doelstellingen van het titaniumaluminium (TiAl), de vlak sputterende doelstellingen van het titaniumaluminium (TiAl) de kathodische doelstellingen en van het titaniumaluminium (TiAl).

Van het titaniumaluminium het Draaibare (Roterend, Cilindrisch) Sputterende Doel

Productiewaaier
OD (mm): 80 - 160
Identiteitskaart (mm): 60 - 125
Lengte (mm): 100 - 4000
Naar maat gemaakt

Specificatie
Samenstelling: 25/75, 30/70, 33/67, 40/60, 50/50,60/40, 67/33, 70/30, 75/25, 80/20
Zuiverheid: 99.7%
Dichtheid: 3.1 - 4,0 g/cm3
Korrelgrootte:< 100="" micron="" or="" on="" request=""> Vervaardigingsprocessen
HEUP, Plasma het Bespuiten, het Machinaal bewerken, het Plakken
Vorm
Rechtstreeks, Hond boneEnd Types
Sc.i, SRF, DSF, RFF, WFF, VA, GPI-Eindenbevestiging, Spiraalvormige Groef,
Naar maat gemaakt voor SS Steunende Buis
Oppervlakte: Ra 1,6 micron

Andere Specificatie
Damp ontvet die en na het definitieve machinaal bewerken wordt gedemagnetiseerd.
Identiteitskaart om de GROND van Jinxingand te zijn OD nadat de ruwe buis wordt geproduceerd om identiteitskaart aan OD concentriciteit te verzekeren voldoet tekenings aan vereisten.
Hoge vacuüm strak, lektarief bij om het even welke plaats om 1 x 10-8 STD CC/SEC niet te overschrijden.
Verzegeld die in plastiek, in te beschermen schuim wordt, en einden worden afgedekt verpakt om verbindingsoppervlakten te beschermen.

TiAl richt Beeld: