Verzoek om een Citaat
Dutch
Thuis ProductenSputterende DoelstellingenVan het het Titaniumaluminium van het HEUPproces Ti75Al25 de Ronde Bar voor het Sputteren
HIP Process Ti75Al25 Titanium Aluminum Round Bar For Sputtering
HIP Process Ti75Al25 Titanium Aluminum Round Bar For Sputtering
HIP Process Ti75Al25 Titanium Aluminum Round Bar For Sputtering HIP Process Ti75Al25 Titanium Aluminum Round Bar For Sputtering HIP Process Ti75Al25 Titanium Aluminum Round Bar For Sputtering HIP Process Ti75Al25 Titanium Aluminum Round Bar For Sputtering

Van het het Titaniumaluminium van het HEUPproces Ti75Al25 de Ronde Bar voor het Sputteren

Productdetails:
Plaats van herkomst: China
Merknaam: Jinxing
Certificering: ISO
Modelnummer: TiAlti75al25 Ronde Bar voor het Sputteren
Betalen & Verzenden Algemene voorwaarden:
Min. bestelaantal: 10kgs
Prijs: 10-100USD/kg
Verpakking Details: standaard uitvoerend pakket
Levertijd: 10days
Betalingscondities: L/C, T/T
Levering vermogen: 10ton maand
Contact nu

Gedetailleerde informatie
Zuiverheid: Al-Ti (35/65at%), Al/Ti (50:50 at%) Vorm: Schijven, Plaat, Stap
Certificering: ISO 9001:2008 Specificatie: Aangepast als verzoek
Proces: HEUP Naam: Ti75Al25 Ronde Bar voor het Sputteren
Hoog licht:

Ti75Al25 de Ronde Bar van het Titaniumaluminium

,

Het Aluminium Ronde Bar van het HEUPtitanium

,

HEUPti75al25 Ronde Bar

Productomschrijving

Ti75Al25 Ronde Bar voor het Sputteren

 

Het 75:25 van het TiAldoel
Productnaam: Het doel75:25 at% van het titaniumaluminium

75:25 at% van het titaniumaluminium
De TiAldoelstellingen worden veroorzaakt in een meltmetallurgical proces.

Toepassing
Ti75Al25 wordt de Ronde Bar voor het Sputteren gebruikt voor slijtvaste deklagen, b.v. snijdend hulpmiddelen.

Zuiverheid
Metaalzuiverheid ≥ 99,8%

Samenstellingsverhouding
75:25 at%

Vorm van Levering
Sputterende doelstellingen, boogkathoden, ronde doelstellingen tot? 220 mm in één segment, rechthoekige doelstellingen tot een lengte van 1100 mm en een breedte van 200 mm in één segment.

Chemische Analyse in % gew.
De Tolerantie <0> van Fe <0> C <0> O <0> N <0> H van Al en Ti +/- 1 % gew.

Fysische eigenschappen
Smeltpunt: 1620°C
Geleverde dichtheid: ≥ 4,18 g/cm3

Ti75Al25 Ronde Bar voor het Sputteren van Beeld:

Van het het Titaniumaluminium van het HEUPproces Ti75Al25 de Ronde Bar voor het Sputteren 0Van het het Titaniumaluminium van het HEUPproces Ti75Al25 de Ronde Bar voor het Sputteren 1

label:

Wolfram Sputterend Doel

metaal sputterende doelstellingen

het titanium sputtert doel

Neem contact op met ons

Ga Uw Bericht in

Je zou deze kunnen zijn